英国オックスフォードアプライドリサーチ社製品
(Oxford Applied Research ltd.)
表面科学・ナノサイエンス研究用機器装置メーカー(代理店業務)
ミニ e-ビームエバポレータ Mini e-Beam Evaporators
オックスフォード・アプライド・リサーチ社のMini eビーム蒸着装置は、超高純度な薄膜を安定して成膜できる装置です。成膜速度の調整幅が広く、0.1Å/分以下から50Å/分以上まで細かくコントロールできるため、表面科学や薄膜の研究・開発に最適です。
また、最大4種類の材料を同時に蒸着することができ、それぞれの材料ごとに成膜速度を個別に調整できます。装置はコンタミ防止・パーティクル抑制・高い信頼性を重視した設計で、可動部品がないシンプルな構造と、高効率な水冷方式により、安定した運用が可能です。
＜用 途＞
■ 数nmの薄膜作製、半導体ドーピング
＜特 徴＞
■ 冷却効率でコンタミネーションフリーの設計
■ 材料はロッドまたはルツボ充填の選択
■ 標準搭載のフラックスモニタリングプレートにより精密な膜厚コントロールが可能
■ １、４ポケットのタイプ ４ポケットタイプは各ポケットの独立制御で同時蒸着も可能なタイプあり
サドルフィールド型アトムソース FAB110/FAB104
オックスフォード・アプライド・リサーチ社のアトムソースは、基板前処理やスパッタエッチング、アトムビーム蒸着に活用できる、コストパフォーマンスの高い原子ビーム装置です。装置は高真空・超高真空環境に対応し、シンプルな構造で操作が簡単、メンテナンスも容易。また、フィラメントを使わない設計のため、焼損によるトラブルがありません。
ArやXeなどの不活性ガスだけでなく、CF₄やSF₆などの反応性ガスも使用可能で、半導体材料の加工や選択的エッチングなど、さまざまな用途に対応します。無電荷の原子ビームを安定して供給でき、帯電を避けたいプロセスにも最適です。
さらに、コンパクトな設計で既存の真空装置にも簡単に取り付けが可能です。
（旧VSW／旧Atomtech社商品）
＜用 途＞
■ 成膜前の基板クリーニング
■ 常温接合前のサンプルのクリーニング、表面の活性化
■ 半導体基板等のエッチング
■ 微細加工
■ リアクティブアトムビームエッチング
＜特 徴＞
■ 絶縁物や半導体試料へのダメージ低減
■ 無電荷ビームのため、電場や磁場中でも曲がらず直進
ピエゾエレクトリックガスドーザー PLV1000
オックスフォード・アプライド・リサーチ社の圧電式ガスドーザーは、全金属製で超高真空（UHV）環境にも対応した、高性能なガス供給バルブです。内部の圧電素子が電圧で伸び縮みし、その動きでバルブの開閉を行う仕組みになっています。 また、電圧の調整で従来の手動ノブと同じ感覚でガスの流量調整ができるのが特徴で、特にごく微量のガス制御が必要な場面で細かな調整がしやすい設計になっています。
＜用 途＞
■ 極微量ガス導入
■ MBEガス導入
■ ガスパルシング
■ システム圧力コントロール
＜特 徴＞
■ リモートコントロール
■ オールメタル
■ 極微量コントロール
■ ＰＣコントロール
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